纳米三氧化钨薄膜的制备方法之一

本发明涉及一种纳米三氧化钨薄膜的制备方法，特别是涉及一种用于光催化或光电化学池的半导体光电极的纳米三氧化钨薄膜的制备方法。合成过程包括：前驱液制备、基底镀膜、高温煅烧。具体步骤如下：

1）将浓度为2wt-50wt%水溶性多聚钨酸盐水溶液加入10wt-50wt%分散剂，制得三氧化钨前驱液，所制的前驱液能够保存在３个月以上；

2）采用浸渍提拉法或旋涂法在基底表面进行镀膜；

3）接着在空气中高温煅烧将有机成分分解，即可得到纳米三氧化钨薄膜。

本发明的方法具有工艺过程简单、操作方便等特点，制备的纳米三氧化钨薄膜具有纯度高、与基底结合牢固、不受尺寸限制及良好的光电性能等优点。

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